众所周知,前几天日本的半导体禁令,正式出炉了,7月23日起开始实施。
(相关资料图)
一共是23种半导体设备被列入了限制出口清单,当然并不是说不能出口了,而是被列入清单的这些设备,除了42个友好国家和地区外。不管出口到哪一个国家和地区,都需要日本政府的许可证。
日本表示,这不是故意针对哪一个国家,但明眼人都清楚,日本就是听美国的话,针对的就是中国。
并且,让人气愤的是,日本人在搞针对这事上,太认真了,比美国、荷兰的禁令还更详细。
美国只是提出一个目标,14nm以下逻辑制程,18nm以下DRAM内存,128层以上NAND闪存的设备禁止出口给中国。但是很多设备其实是不分14nm,还是28nm的,那么这些设备,美国也是睁一只眼,闭一只眼,只是关键设备不行。
而荷兰的ASML,也只说目前在售的浸润式光刻机中,NXT:2000i及之后的浸没式光刻系统将会受到出口限制,但其中像NXT:1980Di 仍将可以出口,而这台光刻机,用的好,可以实现7nm工艺的。
但日本的禁令却不同了,一字一句,抠的非常细,比美国、荷兰的禁令还要详细,并且针对性极强。
就拿光刻机来说,日本的限制里面,写着“光源波长为193纳米以上、且光源波长乘以0.35再除以数值孔径得到的数值为45及以下”的光刻机。
这句话的意思是什么呢?意思就是浸润式光刻机是被禁的,因为浸润式光刻机,虽然使用的是193nm的光源,但CD小于45nm,那么就属于管制范围。浸润式光刻机,是用于45-7nm工艺的,日本一把全禁了,管你呢。
类似的还是热处理设备,干法清洗,湿法清洗设备等,如果大家认真去看看日本这23项设备的详细描述清单,会发现日本在禁令这一块,真的太细了。
并且非常有针对性,各种设备,只要有可能可以用到先进制程的,就禁了再说,至于他有可能也会用在成熟工艺上,那不管了,只要有关先进制程,就先把你卡死再说。
这或许就是网友们“赞扬”的“日本工匠”精神吧,每个细节都抠死你,绝不放过任何一个有可能会被疏忽掉的地方。
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